真空速凝爐的抽真空度要達到多少　　真空速凝爐的抽真空度應根據具體工藝和材料要求而定。以下是一些常見的真空度要求范圍：　　1.高真空區域（High Vacuum）：通常要求在10^-3至10^-6帕（Pa）的范圍內。這種真空度適用于許多金屬合金的高溫處理、晶體生長以及其他對氣體污染敏感的工藝。　　2.超高真空區域（Ultra-High Vacuum,UHV）：通常要求在10^-6至10^-9帕的范圍內。這種真空度適用于半導體器件制造、薄膜沉積、電子束物理沉積（EB-PVD）等高精度和高純度的工藝。　　需要注意的是，實際的真空度目標可能會受到設備本身的性能和限制、工藝需求以及操作條件的影響。因此，在選擇和操作真空速凝爐時，應根據具體情況并參考相關的工藝要求，確定適當的抽真空度范圍。同時，還需注意確保真空系統的密封性和維護，以保持所需的真空度水平。

　　真空甩帶爐熔煉介紹 　　真空甩帶爐在真空條件下利用電弧來加熱和熔煉金屬的熔煉方法。這種熔煉方法所使用的電極有自耗電極和非自耗電極兩種。 　　自耗電極是由被熔煉材料(即爐料)制成，在真空甩帶爐的熔煉過程中它逐漸消耗;而非自耗電極系利用鎢等高熔點材料制成，在爐料熔煉過程中它基本上不消耗。采用自耗電極的真空電弧爐稱自耗電極電弧爐，簡稱自耗爐;采用非自耗電極的真空電弧爐稱非自耗電極電弧爐，簡稱非自耗爐。 　　現在，非自耗電極熔煉已較少使用，而自耗電極熔煉大量應用于生產實踐中，成為二次重熔的主要手段之一。真空電弧熔煉的坩堝一般用銅制成，外面用水冷卻，稱為水冷銅結晶器。 　　真空甩帶爐熔煉時，可以將自耗電極(被熔煉材料)接負極，水冷銅結晶器接正極，通電后兩極間產生弧光放電，將電能轉變成熱能，產生高溫使材料熔化。熔煉過程中液態金屬熔滴通過高溫弧區后落入金屬熔池，并在水冷銅結晶器內凝固成錠。通過金屬液與氣相間以及熔池內發生的一系列物理化學反應，達到提高金屬的純凈度，改善其結晶組織和性能的目的。 　　雖然真空甩帶爐不受大氣、耐火材料和鑄模等的沾污;可以去除鋼及合金中的氣體和有害金屬雜質;熔煉中夾雜物也可上浮去除一部分，并可改善夾雜物在合金中的分布及形態;水冷銅結晶器中的鋼錠鑄態組織比普通鑄錠為好。 　　但真空甩帶爐熔煉需預制電極，且鋼錠表面較差。真空電弧熔煉可用來熔煉鈦、鋯、鎢、鉬等活潑金屬、難熔金屬以及它們的合金，也可用來熔煉高溫合金及有特殊用途的鋼和合金。